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多元多层纳米膜技术

2005年

应用技术

成果简介

该技术是在离子镀技术上发展起来的一项镀膜技术。在真空室内采用真空弧光放电方法激发阴极材料，形成原子和离子。在电场作用下，原子和离子束高速轰击作为阳极的工件表面。与此同时向真空室内通入反应气体，即可在工件表面形成镀层。交替激发不同阴极材料(如钛、铬等金属)，可以获得多元多层纳米膜，如TiN/CrNTiN/CrN等。技术指标：渗层厚度：2-5μm；渗层硬度：1300-1800HV。应用说明：(1)刃具...

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